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新方法:可提高雙光子光刻3D打印的分辨率、成型高度和成品X光吸收量

微納
2018
01/04
23:39
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南極熊2018年1月4日訊/美國勞倫斯·利弗莫爾國家實驗室(LLNL)近日發(fā)現(xiàn)了一種新方法,能提高雙光子光刻(TPL)這種微觀3D打印技術(shù)的能力。而這有助于醫(yī)生用X射線CT掃描分析人體內(nèi)的3D打印植入物。

TPL與其它一些3D打印技術(shù)一樣采用激光,但分辨率卻高出許多,主要是因為它使用了一種能同時吸收兩個光子的光刻材料。而這次LLNL發(fā)現(xiàn)的新方法主要涉及將抗蝕劑材料直接施加到透鏡上,然后透過這種材料讓3D打印機的激光聚焦。由此帶來的改變是:打印分辨率可以進一步提高至150納米,但打印件高度卻可以達到數(shù)毫米。



“通過這項研究,我們找到了用TPL處理定制的材料卻又不犧牲超高分辨率的方法!盠LNL研究員James Oakdale表示。

不過,這僅僅是個開始 — 研究人員發(fā)現(xiàn),除了能顯著提高TPL的分辨率,他們還可以將3D打印過程中使用的光敏聚合物抗蝕劑的衰減提高10倍以上,從而增加(或減少) 抗蝕劑吸收X射線的量。


▲用改進后的TPL技術(shù)3D打印的亞微米級八角形桁架結(jié)構(gòu)

這是通過“折射率匹配”,即令抗蝕劑材料的折射率與透鏡的浸入介質(zhì)匹配實現(xiàn)的,可以讓3D打印機的激光能夠在最小的干擾下通過。而這種改進最終可令TPL能夠打印尺寸部件,但同時保證100納米的驚人分辨率。

“大多數(shù)想要利用TPL打印功能性結(jié)構(gòu)的研究者都希望打印尺寸能高于100微米,F(xiàn)在,通過使用抗蝕劑,這點終于可以實現(xiàn)了,”LLNL研究員Sourabh Saha表示,“TPL唯一的缺點就是速度慢。但現(xiàn)在,我們已經(jīng)掌握了改進的方法。”


▲用改進后的TPL技術(shù)3D打印的亞微米級woodpile晶格

值得一提的是,這項研究還產(chǎn)生了一個重要附帶效果 — 可以調(diào)整抗蝕劑的X射線吸收量。由此,研究者理論上就可以3D打印出能吸收更多X射線的植入物。而這無疑有助于醫(yī)生使用外部X射線或其它成像設(shè)備更容易地檢查這些植入物。

此外,改進后的TPL還可以有許多其它用途,比如制造(然后檢查)國家點火設(shè)施目標的內(nèi)部結(jié)構(gòu),LLNL的大型激光慣性約束聚變(ICF)研究裝置(用于實現(xiàn)聚變點火),以及電化學(xué)電池。

對這項研究感興趣?可以點擊這里查看相關(guān)論文

編譯自 3ders


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