納米級金屬3D打印技術登上《Nature》正刊

來源：高分子科學前沿

隨著科學技術的進步，三維（3D）打印正在逐漸發(fā)展并滲透到生活和生產(chǎn)中，改變了電子制造、光學器件、機器人制造、生物工程和傳感技術等很多領域的生產(chǎn)工藝。3D打印有許多種技術，可以選擇不同的材料并通過不同層設計來打印部件。微型尺寸的3D打印技術利用微結構和納米結構，實現(xiàn)微型加工，受到了研究者的關注?，F(xiàn)有的金屬3D納米打印技術需要高分子/金屬混合物、金屬鹽或流變性墨水，這限制了材料的選擇和最終結構的純度。如何實現(xiàn)微型納米尺寸的更靈活的3D打印技術，是研究者們一直以來的追求。

浦項科技大學Junsuk Rho教授及首爾國立大學Mansoo Choi教授團隊致力于3D打印技術的研究，報道了一種新型的3D打印金屬納米結構陣列的技術，并以“Three-dimensional nanoprinting via charged aerosol jets”為題發(fā)表在《Nature》上。

3D納米打印裝置的結構
現(xiàn)有的金屬3D納米打印技術需要高分子/金屬混合物、金屬鹽或流變性墨水，這限制了材料的選擇和最終結構的純度。氣溶膠光刻技術以前曾被用于在預先模壓的襯底上組裝高純度的3D金屬納米結構陣列，但其幾何形狀有限。作者及其團隊介紹了一種直接3D打印金屬納米結構陣列的技術，這種金屬納米結構具有靈活的幾何形狀和特征大小，可達數(shù)百納米，可以使用各種材料?；鸹ǚ烹姰a(chǎn)生的帶電氣溶膠和離子同時注入靜電室，靜電室中有帶孔的陣列 (圖1a)。襯底的掩膜的分離是至關重要的,因為它使襯底自由移動而不接觸越來越多的納米結構,有一定的相對距離，最終打印所需的3D納米結構。

基板的運動由一個3D納米臺控制。通過對基板施加負電位，正的氣溶膠和離子被吸引到掩膜上。陽離子的遷移率較高，首先到達掩膜表面，然后是帶電的氣溶膠。陽離子積累是為了防止納米顆粒沉積在掩膜上，并在每個孔周圍形成靜電透鏡。這種透鏡聚集帶正電的氣溶膠，不會造成堵塞。該掩模與其他3D打印技術中的噴嘴類似，但由于靜電聚集，可打印結構的寬度要比孔的尺寸小得多，可以通過在3D空間中平移納米臺來操縱要打印物體的結構。

圖1 3D納米打印裝置的示意圖，該裝置由納米顆粒(氣溶膠)源、掩模和壓電納米臺組成。

打印懸垂納米管的過程
在圖2a中，作者展示了電場線(納米粒子軌跡)是如何操縱的——通過改變尖端的瞬時位置與掩膜孔位置之間的相對距離。在圖2b-e中，作者展示了沿x軸程序化移動納米工作臺以打印懸垂的3D納米結構的例子。平移速度(8.3 nm s−1,12.5 nm s−1)控制著向上生長結構的傾斜角度(θs = 30°，45°)。圖2d展示了一個向上生長(θ s = 40°)后的正交相交(相對于垂直支柱)結構(θ s = 90°)。

圖2 通過一個孔打印一個懸垂的納米管的示意圖。

作者打印了一個旋轉角度為720°的螺旋形狀：螺旋先逆時針旋轉360度，然后順時針旋轉360度。此種方法可以快速生產(chǎn)高純度的螺旋金屬納米結構，具有更大的靈活性，能適應更多的環(huán)境條件?；趯嶒灛F(xiàn)象，作者建立了現(xiàn)象學模型來描述尖端的定向生長。應用電場通量守恒定律，得到直線形狀方程。與其他3D打印方法相結合，作者希望3D-納米打印技術能夠在納米制造方面取得實質性進展。

圖3 電場線在納米級旋轉下打印螺旋形狀。螺旋的傾斜視圖(a)和俯視視圖(b)SEM圖。（c）投影到x-y平面上的螺旋結構的生長示意圖。

為了展示這項技術的潛在應用，作者打印了一組垂直裂環(huán)諧振器結構。在沒有模板的情況下，真空中打印 3D納米結構是非常昂貴和困難的，該技術為真空光刻技術提供了替代方案。作者設計了與磁場相互作用的金垂直裂環(huán)諧振器(SRR)結構。尖端定向生長和表面刻寫的結合產(chǎn)生了間隔為9.2 μm的垂直SRR陣列。垂直SRR的激發(fā)，稱為磁共振，通過反射光譜測量和模擬得到證實。為了驗證垂直SRR結構的磁共振性能，作者采用有限元方法計算了表面電流和磁場分布。沿垂直SRR結構的表面電流在水平方向上形成與基板平行的磁偶極矩。

綜上，這是一種完全干燥的技術，不涉及高分子聚合物或油墨，使用一致的電場線作為繪圖工具，可以在大氣條件下進行。這種尖端定向的3D打印模式可以方便地打印各種結構，包括螺旋，懸垂納米管，環(huán)形結構和字母等。通過尖端打印和表面修飾兩種模式的結合，作者成功地制備了具有磁共振功能的垂直SRR結構。此外，作者還建立了一個與實驗數(shù)據(jù)一致的現(xiàn)象學模型。這項研究成果幫助3D-納米打印技術在納米制造方面取得實質性進展。